Fosfor Tanıtımı
"Doping" işlemi, elektriksel özelliklerini değiştirmek için silikon kristale başka bir elementin bir atomunu sokar. Katkı maddesi, silikonun dördünün aksine, üç veya beş değerlik elektronuna sahiptir. Beş değerlik elektronuna sahip fosfor atomları, n-tipi silikonu katmak için kullanılır (fosfor, beşinci, serbest, elektronunu sağlar).
bir fosfor atom, daha önce değiştirdiği silikon atomu tarafından işgal edilen kristal kafes içinde aynı yeri kaplar. Değerlik elektronlarının dördü, değiştirdikleri dört silikon değerlik elektronunun bağlanma sorumluluklarını üstlenir. Ancak beşinci değerlik elektronu, hiçbir sorumluluk taşımadan serbest kalır. Bir kristal içindeki silikon için çok sayıda fosfor atomu sübstitüe edildiğinde, birçok serbest elektron kullanılabilir hale gelir. Bir silikon kristalindeki bir silikon atomu için bir fosfor atomunun (beş değerlik elektronu ile) ikame edilmesi, kristalin etrafında hareket etmekte nispeten serbest olan ekstra, bağlanmamış bir elektron bırakır.
En yaygın doping yöntemi, bir silikon tabakasının üstünü fosfor ile kaplamak ve daha sonra yüzeyi ısıtmaktır. Bu, fosfor atomlarının silisyuma difüze olmasını sağlar. Daha sonra sıcaklık, difüzyon hızı sıfıra düşecek şekilde düşürülür. Fosforun silikon içine sokulmasının diğer yöntemleri arasında sıvı bir katkı maddesi olan gazlı difüzyon bulunmaktadır. püskürtme işlemi ve fosfor iyonlarının tam olarak yüzeyine sürüldüğü bir teknik silikon.
Bor Tanıtımı
Elbette, n-tipi silikon, Elektrik alanı kendi kendine; zıt elektriksel özelliklere sahip olması için bazı silikonların değiştirilmesi de gereklidir. P-tipi silikonu katmak için kullanılan üç değerlik elektronu olan bor. Bor, silikonun PV cihazlarında kullanım için saflaştırıldığı silikon işleme sırasında sokulur. Bir bor atomu, daha önce bir silikon atomu tarafından işgal edilen kristal kafes içinde bir pozisyon aldığında, bir elektronu eksik bir bağ vardır (başka bir deyişle, fazladan bir delik). Bir silikon kristali içindeki bir silikon atomu için bir bor atomunun (üç değerlik elektronu ile) ikame edilmesi, kristal etrafında hareket etmek için nispeten serbest olan bir delik (elektronu olmayan bir bağ) bırakır.
Diğer yarı iletken malzemeler.
Silikon gibi, tüm PV malzemeleri p-tipi ve n-tipi konfigürasyonlara dönüştürülmelidir. bir PV hücresi. Ancak bu, malzemenin özelliklerine bağlı olarak birkaç farklı yolla yapılır. Örneğin amorf silikonun benzersiz yapısı, iç katmanı veya “i katmanını” gerekli kılar. Amorf silikonun bu katlanmamış tabakası, "p-i-n" tasarımı olarak adlandırılan tasarımı oluşturmak için n-tipi ve p-tipi tabakalar arasına oturur.
Bakır indiyum diselenid (CuInSe2) ve kadmiyum tellür (CdTe) gibi polikristalin ince filmler PV hücreleri için büyük umut vaat etmektedir. Ancak bu malzemeler n ve p katmanları oluşturmak için basitçe katlanamaz. Bunun yerine, bu katmanları oluşturmak için farklı malzemelerin katmanları kullanılır. Örneğin, bir "pencere" katmanı kadmiyum sülfit veya benzeri bir malzeme, onu n tipi yapmak için gerekli ekstra elektronları sağlamak için kullanılır. CuInSe2'nin kendisi p-tipi yapılabilirken CdTe, çinko tellürid (ZnTe) gibi bir malzemeden yapılmış p-tipi bir tabakadan yararlanır.
Galyum arsenit (GaAs), benzer şekilde, genellikle indiyum, fosfor veya alüminyum ile, çok çeşitli n- ve p-tipi malzemeler üretmek üzere modifiye edilir.